第171章 里程碑，史前第一台70nm光刻机！（1/1）

“老板，我们刚研发出PAS 5500光刻机……上市是不是早了点？”

“一点都不早，光刻机这个行业是要不断往里面投钱的，只要稍微停下研发脚步，就会被整个市场所淘汰。

研发下一代光刻机，我们要投入成倍的金钱，以半岛如今的盈利状况，想要独立承担研发费用，是一件很困难的事情。”

在王磊的预想里，PAS 5500一旦出世，将迅速占领光刻机市场，三星、台积电的订单将源源不断的涌向半岛科技，到时候上市募集个上百亿的资金还是轻轻松松的事情。

邱明祥忍不住打断了王磊的思绪：

“老板，我们现在首要任务是拿到第一笔订单。”

“是啊，我们首先要迈出第一步才行。”

半岛科技如今还是光刻机的新玩家，在整个半导体市场如今还是个无名小子。

让大半导体商们换合作商是不是一件小事。

他们首先要做的便是推销自己的产品。

“对行业巨头们发出邀请函吧，就说我们制造出了最新一代光刻机，邀请他们来参观。”

“还有那些友商们也发一份邀请函，我打算在展会上正式确立我们的领先地位。”

邱明祥点了点头，表示立马会去准备。

这时，拜尔斯悠悠转醒，他立马意识到被众星拱月的是半岛的幕后老板王磊。

“王先生，您来啦？”

“拜尔斯你做的不错，我决定正式升任你为半岛科技的技术总顾问，涨薪50%，你的团队成员的奖赏都由你来定夺。”

拜尔斯被巨大的惊喜所包裹，他作为研发项目的负责人，被挖来时薪水已经是行内最顶尖的水平。

这样的涨薪幅度立马令这名洋专家有了为知己者死的想法。

他飘洋过海来到港城，不就是为了多赚点美元。

王磊拍了拍他的肩膀：

“加薪升职只是一个开始，PAS 5500量产后，我还会在年终发一份巨额奖赏给你们。”

“你们生活上存在什么不习惯的地方都可以跟我当面提。”

拜尔斯急忙摇了摇头：“我们都对现在的生活很满意。”

半岛科技对技术型人才的待遇很优厚，专家级的工程师每人都会获得一套小别墅，还有专门负责接送的司机。

虽然知道这是公司收买人心的手段，但不少人都备受感动。

“你们研发出的5500的确很先进，可以适用于70nm到2μm的芯片制造。”

说到这，拜尔斯也非常的自豪，pas 5500是现在世界上最先进的刻光机，可以满足大集成电路的各种需求。

拜尔斯强调道：

“老板，5500的先进不止如此，它还是世界第一部可拆卸组装的刻光机。”

他亲自为王磊展示了部分拆卸组装的操作。

他们将这台刻光机分成了十个模块，每个模块都可以分开组装。

这样一来，无论哪个零件出了问题，换了新的模块零件便可以继续工作。

王磊和所有高管都意识到这会是打动半导体商非常重要的一点。

以往刻光机损坏，就意味着一条生产线停工停产，需要厂商派出修理的工程师维修，直到完全修复才可以恢复工作。

半导体商面临的最大问题往往都是产能，时间对于他们来说就是生命。

一台可拆卸的刻光机可以解决很多产能问题。

在金钱的刺激下，拜尔斯主动提议道：

“老板，我们目前要解决的便是订单问题，有了订单，生产线才能全力运作起来。

我们可以试着找巨头IBM聊聊，他们曾公开表示谁第一个生产出更精细的光刻设备就会找谁合作。”

这件事邱明祥也是知道的，解释道：

“IBM在89年率先宣布他们成功在8英寸晶圆上制造芯片，工艺制程将精细到365nm，他们的总裁呼吁光刻机厂商研发精度更高的光刻设备。

并且公开保证，谁第一个造出来，IBM将优先购买他们的光刻机！”

王磊眼睛一亮，他正在为光刻机卖给谁，买主不就这么来了吗。

“这一次展会，一定要邀请IBM的人来观摩观摩，要知道我们的光刻机精度可是提升到了70nm！”

远远超过了IBM所要求的365nm。

王磊很期待看到一群老外惊讶错愕的眼神。

几人都不由的相识一笑。

“老板，只要拿下IBM，我们的市场占有率可以提高到5%！”

见拜尔斯有点飘的样子，王磊还是忍不住敲打道：

“拜尔斯，虽然我们目前制造出了远超同行的光刻设备，但远远没有到可以大意的时候，我们要尽早将光源波长提高到157nm！”

光刻机技术的升级，可以简单的看作光源波长的升级。

通过用更高级的曝光光源，来支撑技术进步到下一代。

为了追求更高的分辨率，光源波长从最初的365nm，到248nm，再到如今pas 5500使用的193nm。

据王磊对光刻机发展进程的了解，想要从248nm进化到193nm并不是最难的一步。

用不了几年，尼康、佳能、以及美丽国的GCA都会相继走到这一步。

最困难的还是向157nm的技术升级。

所有的大厂商都被卡在这一步上。

谁先迈出这一步，便会奠定一超多强的格局，彻底成为光刻机行业的霸主。

拜尔斯也没有预料到王磊的野心会如此的大，刚完成了技术升级，又开始琢磨着下一代光刻机。

“你放心，不管研发中遇到多少困难，我都会全力支持你们的研发！”

说这话的时候，王磊却将思绪飘到了台积电。

那里有一位龙裔科学家，堪称半导体“鬼才”一般的存在。

正是他提出了一种较为大胆的理念——浸没式！

他创造性的提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193nm，但通过水的折射，使进入光阻的波长缩小到134nm。

以前的干式法中，曝光介质用的是空气。

它们的区别在于折射率，193 nm光源在空气中的折射率为1，在水中折射率为1.4。

这也就意味着相同光源条件下，浸没式光刻机的分辨率可以提高1.4倍。